中國照明網報道

對用于euv(極紫外)光刻工藝的關鍵材料的投資將全面展開。盡管隨著主要的韓國半導體公司最近開始在其生產線中引入euv工藝，相關技術已經引起了人們的關注，但人們仍對支持該投資的相關材料，組件和設備的基礎薄弱提出了批評。預計這些投資將為euv流程擴大韓國研發生態系統的基礎。

根據行業消息，5月26日，韓國科學和信息通信技術部(msit)將在未來5年內投資950萬美元(117億韓元)，用于“5nm以下半導體光刻工藝的euv吸收和滲透材料技術”項目。材料創新項目”。包括私營部門的投資在內，總投資額為1100萬美元(136億韓元)。該項目的關鍵是本地化euv光刻工藝所必需的材料，這種材料被視為尖端的半導體制造技術。韓國電子技術研究所(聚合電子材料研究中心，金亨根(負責人))將監督該項目。

此外，“euv-iucc”是由漢陽大學的安進浩教授于去年成立的euv光刻技術研究咨詢小組，將負責國內外公司，學術界的集中能力。以及研究機構。參與機構和組織將開發可以批量生產處于初生階段的euv生態系統中已成為“藍?！钡漠a品的技術。具體來說，他們將在euv面罩毛坯和euv防護膜上工作。掩?？瞻妆硎驹谟秒娐穲D案覆蓋之前用于光刻工藝的掩模。與基于滲透的arf光刻工藝不同，euv掩模需要高水平的技術，因為它們需要“反射”容易被每種物質吸收的euv光源。

盡管該市場是由日本公司主導的，但由于世界上最大的半導體設備制造商應用材料公司(applied materials)已開始開發相關技術，因此被認為是一個充滿希望的市場。euv防護膜表示可保護面罩免受污染的保護罩。pellicle減少了缺陷百分比和更換光罩的次數。但是，euv防護膜商業化可能需要一段時間。

euv光刻機的工作原理(參考：asml)

fst和snstech是韓國公司，已開始致力于開發這些材料。fst將專注于euv防護膜，因為它專門從事arf光刻工藝的防護膜。有趣的是，該公司是否可以通過確保制造euv防護膜的技術來進入下一代基礎技術市場。盡管snstech被認為是開發euv防護膜的公司，但它將嘗試開發euv面膜毛坯并盡快確保廣泛的產品安全。此外，已經建立了可以立即評估euv防護膜和euv面膜毛坯性能的可靠盟友。

postech旗下的浦項加速器實驗室將開發一種技術，該技術可使用euv光束檢查材料的性能，而韓國標準與科學研究院將準備技術標準并評估熱和機械特性。預計也將有大公司參加，因為三星電子和sk hynix很有可能將國內技術應用于其下一代產品線。韓國電子技術研究院正計劃通過該項目獲得至少十項a級專利。從一個相對較慢的韓國euv生態系統快速發展的角度來看，該項目意義重大。此外，有趣的是，韓國公司是否可以確保新技術并在由hoya，mitsui chemicals和asahi glass等日本公司領導的全球euv市場中建立影響力?！拔覀冾A計該項目將擴展到其他關鍵材料，例如euv光刻膠以及自去年日本政府實施貿易限制以來已成為問題的其他材料?！?該行業代表說。

編輯：嚴志祥

來源：行家說